马赛克作为画幅不够大的解决方案，被广泛运用，从科研到创作都有涉及。
在Pi中，默认的马赛克Process并不能满足绝大多数马赛克的需求，非常容易出现星点不自然（黑坑），衔接明度梯度等问题。由于算法的劣势，又有很多新的算法被开发，其中最好用、广泛的就是Photometricmosaic的script。这个script能解决大多数马赛克的问题，但是，有些特殊的情况下，这种方案会完全没办法正常运行
1、衔接区域有高光
这会导致背景计算的参数出现较大偏差，从而出现明显梯度
2、两个区域为角对角式的马赛克
这会导致马赛克的区域overlap计算出错，从而截去需要的信号
看下这个素材
在Solve好坐标后，用Mosaic by coordinates 创建的两张registered过的图像，如下所示
如果直接用Pmm的话，效果如下
无论怎么调参数，因为核心在overlap，明度总是不对的
难道这个素材就这么丢了吗？
no，我为这个素材开发了一个新的方法，只要几个简单步骤，就能让这个素材死而复生——古法拼接
1、打开rangemask，在最后一个小数点把0换成1，生成一张区域蒙版如下
然后用max函数生成一张重叠图
函数如下max(a,b)
a、b为rangemask
在这张图上进行裁切去黑边，然后将裁切的process应用于两张原始图和mask图
之后，再用pixelmath的min函数，生成一张重叠区域的rangemask
函数为min(a,b)
然后看下重叠部分的尺寸，这边的素材是从3600到4000左右，也就是400pixel的大小
之后打开convolution
因为convolution的算法，其他默认，只改变StdDev的话，convolution的范围是从边界向上2倍到3倍左右的范围被影响，向下3到4倍被影响，所以400pixel的话，100pixel就足够了，这个Stddev可以按照Overlap的大小来调整
之后打开Histogram Transformation，或者用Pixelmath 的truncate的函数，这里就用HT来演示
将Shadows设置为0.5，这个就是原来边界的值，这样可以防止边界干扰下方图片形成线条状的Error
然后看Overlap的最高点的值，这个值输入Highlights，保证原有的图不被拼的图干扰
Highlight也可以图方便多截取一点，只是可能会稍不自然一些
这里Highlight没必要裁切，因为接壤处mask的值已经是1了，就不管了
之后给图像应用蒙版并反相，如图
之后，可以用上一期Ha同步R的方法同步明度信号，但我更推荐用DNA linearfit做匹配，在匹配前一定要把两边都做好DBE，防止出现拼接的地方的不自然
然后就要请出DNA linearfit这个插件来同步两个通道的明度了
然后就是拿出Pixelmath，输入下方要拼接的文件名，相当于做一个带蒙版的图像替换
在图像替换的过程中，还要加入一个系数，因为DNA linearfit没法完全完美的匹配，我这个里面的系数是x-0.00005左右，x是要拼的图，我没微调，反正能看不出接缝即可
最终效果如下
相比较之下，手搓简直完美
还有就是RGB要注意要在MBC之前先去边，然后MBC之后再次去边才行，否则容易出现断口
然后这个也同样适用于对角线马赛克或者多素材马赛克，只要能造出mask，想怎么搓都行